暗黑破壞神

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發(fā)布時(shí)間：2021年11月20日

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模型說明

第二場(chǎng)比賽中我的暗黑破壞神面紗。

-兩個(gè)姿勢(shì)

-單一模型

-同一型號(hào)，但為便于打印而拆分，在較小的樹脂印花上打印較大的印花。艾格洛馬

-備選b姿勢(shì)單模型

評(píng)論

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